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直逼1nm工艺 ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年

40人参与2021-01-23

asml公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元euv光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多1.4亿欧元了。

虽然业绩增长很亮眼,但是asml也有隐忧,实际上euv光刻机的出货不及预期的35台,而且他们还宣布了下一代高naeuv光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用,意味着要延期了。

此前信息显示,asml下一代euv光刻机最早是2022年开始出样,大规模量产是2024-2025年间。

直逼1nm工艺 asml下一代euv光刻机延期:至少2025年

asmleuv光刻机目前主要是nex:3400b/c系列,na数值孔径是0.33,下一代euv光刻机是nex:5000系列,可将na提升到了0.55意味着光刻机的分辨率提升了70%。(注:na越高,光刻机精度越高)

目前的euv光刻机可以用于制造7nm3nm工艺的芯片,下代euv光刻机则是针对3nm以下的节点,2nm甚至未来的1nm工艺都要用到na 0.55euv光刻机。

直逼1nm工艺 asml下一代euv光刻机延期:至少2025年

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#intel#cpu处理器

责任编辑:宪瑞

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